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三室真空熔煉爐 真空熔煉爐 真空霧化制粉爐
真空氫化爐
Vacuum hydrogenation furnace
本爐是在真空狀態(tài)、加熱和充入氫氣條件下使物料在反應器皿中發(fā)生氫化反應。
所屬分類：
關鍵詞：
真空氫化爐
咨詢熱線：
真空氫化爐
一．簡介：
本爐是在真空狀態(tài)、加熱和充入氫氣條件下使物料在反應器皿中發(fā)生氫化反應。
本設備包括反應罐、加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、進氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、防護系統(tǒng)。
二．特點：
1.各個工藝參數能在觸摸屏上工況允許的范圍內任意設定。
2.爐料可通過爐內的葉片旋出，還可以傾斜旋轉倒出。
3.設有氫氣綜合報警裝置，設備運行可靠。
4.本HDDR爐適合小批量的生產及研究部門實驗室用。
三．參數：
1．最高使用溫度： 1100℃
2．最高真空度： ≤6.67X10-3Pa
3．最大允許工作壓力： ≤0.1MPa
4．壓升率： 2Pa/小時
5．加熱功率： 根據用戶工藝要求定制
6．裝料量： 根據用戶工藝要求定制
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